濱松中國(guó)2024SemiconChina展后回顧
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在半導(dǎo)體量測(cè)、膜厚等關(guān)鍵領(lǐng)域中,我們?yōu)槟峁└咂焚|(zhì)的光源和光譜儀產(chǎn)品,滿足您在各種復(fù)雜場(chǎng)景下的需求。此外,我們的核心器件產(chǎn)品也為模塊開(kāi)發(fā)提供了強(qiáng)有力的支持。
在光譜儀部分,濱松展出了C10082CA微型光譜儀和PMA-12系列光譜儀產(chǎn)品,憑借其卓越的性能和精確的測(cè)量能力,贏得了眾多科研和工業(yè)領(lǐng)域的信賴。為了更好地發(fā)揮光譜儀的性能,濱松中國(guó)還自主研發(fā)了尖雀軟件。這款軟件不僅與濱松所有光譜儀類(lèi)產(chǎn)品硬件完美兼容,更能夠根據(jù)客戶的具體需求,量身定制應(yīng)用功能。
除了光譜儀模塊產(chǎn)品,濱松也可以為客戶提供其中的核心器件,圖像傳感器產(chǎn)品,產(chǎn)品線覆蓋紫外至近紅外波段。

圖1 核心圖像傳感器
在光源部分,濱松可以為您提供光譜響應(yīng)范圍在170 nm-2500 nm的具有超長(zhǎng)壽命的激光驅(qū)動(dòng)系列光源,產(chǎn)品種類(lèi)豐富,充分滿足您的需求。

圖2 EQ系列產(chǎn)品展示

圖3 ORCA-QUEST QCMOS第二代新品相機(jī)展示
除了最新款相機(jī)之外,濱松眾多經(jīng)典款型號(hào)的相機(jī)也在展會(huì)現(xiàn)場(chǎng)與大家相見(jiàn)了。

圖4 其他高清能相機(jī)展示
在這里還特別值得一提的就是這款高分辨率紅外相機(jī)。它可以做到1280×1024的高分辨率,同時(shí)擁有400~1700 nm的光譜響應(yīng)范圍,非常適用于半導(dǎo)體,光通信等領(lǐng)域。

圖5 濱松紅外相機(jī)效果展示
為了更好地滿足客戶需求,濱松更提供了電子束檢測(cè)的本地化的模塊集成方案,以快速響應(yīng)客戶的定制化訴求。

圖6 電子束探測(cè)器本土化制造
半導(dǎo)體制程支撐類(lèi)產(chǎn)品
多波段等離子加工監(jiān)控器是一個(gè)專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用于監(jiān)測(cè)半導(dǎo)體的各種制造過(guò)程中產(chǎn)生的光學(xué)等離子體發(fā)射的系統(tǒng),包括蝕刻、濺射、清潔和CVD。可以實(shí)時(shí)處理多通道記錄。
Optical NanoGauge 膜厚測(cè)量系統(tǒng),利用光譜干涉法的非接觸式膜厚測(cè)量系統(tǒng)。結(jié)構(gòu)更緊湊,易于安裝到設(shè)備中。我們的 Optical Gauge 系列能夠測(cè)量低至 10 nm 的極薄薄膜的厚度,并覆蓋從 10 nm 到 100 μm 的寬范圍薄膜厚度。

圖6 膜厚測(cè)量系統(tǒng)產(chǎn)品展示
在此次展會(huì)中,濱松提出了對(duì)于第三代半導(dǎo)體獨(dú)家定制的VIS OBIRCH+C-CCD相機(jī)失效定位方案。功率器件由于基底與傳統(tǒng)器件的材料不同,相較于Si材料,SiC的禁帶寬度更寬,發(fā)光波長(zhǎng)更短,常規(guī)的失效定位手段難以應(yīng)對(duì)。全新的VIS OBIRCH對(duì)于SiC的透過(guò)性更好;C-CCD相機(jī)對(duì)于約400~1100 nm波長(zhǎng)的微光信號(hào)捕捉能力更好,更適合第三代半導(dǎo)體的失效分析。
除此之外,工藝制程的進(jìn)一步提升,樣品漏電信號(hào)變得越來(lái)越微弱。濱松新推出的Solid Camera可達(dá)到最低-193℃的制冷溫度,得到媲美于液氮制冷InGaAs相機(jī)的定位能力。利用全新的斯特林制冷技術(shù),無(wú)需液氮制冷,提升檢測(cè)能力的同時(shí),延長(zhǎng)了使用壽命,徹底杜絕了使用液氮制冷過(guò)程中的安全、時(shí)效問(wèn)題。
另外,對(duì)于更復(fù)雜、層數(shù)更多的樣品,Dual PHEMOS-X可以從正背雙面同時(shí)對(duì)樣品進(jìn)行失效定位,對(duì)樣品的不同深度進(jìn)行缺陷定位。為3D NAND、先進(jìn)封裝帶來(lái)失效分析新思路。

圖7 Dual PHEMOS-X產(chǎn)品展示
出于“在一臺(tái)設(shè)備上就能完成失效定位”的目的,濱松將EMMI、OBIRCH、Thermal等功能集成在同一機(jī)臺(tái)上,客戶可根據(jù)實(shí)際業(yè)務(wù)需求,定制化選配單一或多種定位功能的設(shè)備,還可以選擇高壓、高溫、高低溫探針臺(tái),進(jìn)行多種工作環(huán)境下的失效分析。
本次展會(huì)吸引了來(lái)自上海、北京、深圳等地的技術(shù)工程師,面對(duì)面交流失效分析過(guò)程中的技術(shù)細(xì)節(jié)。失效分析作為提升良率、改進(jìn)工藝、優(yōu)化設(shè)計(jì)的重要方法,在生產(chǎn)、驗(yàn)證、測(cè)試、封裝等環(huán)節(jié)中所占比重越來(lái)越大。我們也將繼續(xù)提供更好的產(chǎn)品、更優(yōu)質(zhì)的服務(wù),來(lái)不斷提高客戶的失效分析能力。

圖8 ODPL測(cè)量方法示意圖
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